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GLEICHSTROM
Photo of DC Pulsing Product Suite
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Gepulste Gleichstrom - Produktfamilie

Diese Produktfamilie von AE deckt ein breites Leistungsspektrum ab, um all Ihren komplexen und unterschiedlichen Prozessanforderungen gerecht zu werden. Die flexible Kollektion für gepulsten Gleichstrom liefert Strom von 10 bis 200 kW sowie fixe und variable Frequenzen von 2 - 100 kHz. Jedes Mitglied dieser Familie ist mit Leistungsmerkmalen ausgestattet, die erwiesene Vorteile für reaktives und leitfähiges DC-Sputtern bringen.



Vorteile Leistungsmerkmale
  • Breites Leistungsspektrum
  • Flexible Kollektion an Puls DC-Zubehör
  • Erhöht den Durchsatz mittels Ermöglichung von Betrieb bei höherer Leistung.
  • Reduziert die Targetkontamination
  • Liefert Leistung von 10 bis 200 kW
  • Bietet fixe und variable Frequenzen zwischen 2 und 100 kHz
  • Hervorragende Arc-Unterdrückung – in vielen Fällen werden die Arcs vollständig eliminiert
  • Höhere Ionenenergie
  • Höherer Leistungsbereich
  • Geringere Substrattemperatur
  • Geringere Targettemperatur 
  • Prozessflexibilität und Spielraum
  • Einfache Systemintegration
  • Doppelkathoden-tauglich (Astral® Produkte)


Literatur Download

DC Pulsing Products: Proven Benefits for Reactive & Conductive Sputtering brochure
Guidelines for Using a Pulsar® DC Pulsing Accessory with an SCR-Fired DC Power Supply (2007) application note
Pulsar™ High-Power DC Pulsing Accessory (2006) application note
Arc Handling in RF-Superimposed DC Processes (2006)application note
Increasing Production Output with Pulsed-DC Accessories (2006) white paper
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
The Evolution of Power Delivery in Reactive Silicon Sputtering (1999) white paper
Effects of the Anode Configuration on Substrate Heating in Dual-Magnetron Sputtering (1999) white paper
Power Supplies for Pulsed Plasma Technologies: State-of-the-Art Outlook (1999) white paper
Enhanced Reactively Sputtered Al2O3 Deposition by Addition of Activated Reactive Oxygen (1999) white paper
Advances in Arc-Handling in Reactive and Other Difficult Processes (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Arcing Problems Encountered During Sputter Deposition of Aluminum (2000) white paper
Reactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide Coatings, April 2004 magazine reprint
Pulsed-DC Reactive Sputtering of Dielectrics: Pulsing Parameter Effects, April 2000 magazine reprint
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004, magazine reprint
Partial Pressure Control in Reactive Sputtering, June 2004 magazine reprint
An Economical Method for Process Control in Pulsed-DC Magnetron Reactive Sputtering, June 2003 magazine reprint
Power Supplies Advance Beyond Volts and Amps, June 2003 magazine reprint
AE Global Services brochure

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