Das bipolar gepulste DC-Netzgerät E'Wave^® von Advanced Energy verbessert die Oberflächenhomogenität und reduziert den  zusätzlichen Verbrauch für die Verkupferungsphase bei Dual-Damascene-Prozessabläufen (DDPF), u.a. Wafergalvanisierung in einer Produktionsumgebung und bei der Kupferprozessentwicklung. Das E'Wave-Netzgerät bietet bis zu drei Kanäle, die jeweils mit einer unabhängig angesteuerten bipolaren Stromquelle ausgestattet sind, und produziert, speichert und führt bis zu 15 strom- oder spannungsgesteuerte Wellenformen aus.

Vorteile	Leistungsmerkmale
Hervorragende Lückenfüllung Überlegene Öberflächenhomogenität Geringerer Zusatzverbrauch Leistungsstarke Steuerung und Überwachung Weniger Reinraum erforderlich Umfangreiche Aufstellungsoptionen	Vielseitige Wellenformkonstruktion Bis zu drei unabhängig gesteuerte Kanäle  Bipolar gepulster DC-Ausgang, 0 bis 5 kHz Hochstromfähig Vierpolige Steuerung und Spannungsmessung am Wafer Host-Port-Schnittstelle Kompakte Einheit

Literatur Download

E'Wave^® Bipolar Pulsed DC Power Supply brochure
Overview of the Use of Copper Interconnects in the Semiconductor Industry (2004) white paper
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
Advances in Arc-Handling in Reactive and Other Difficult Processes (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
Power Supplies Advance Beyond Volts and Amps, June 2003 magazine reprint
AE Global Services brochure

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