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Paramount® RF Stromversorgungssysteme

Das 3 kW Paramount® RF Stromversorgungssystem im Halbrackformat zeichnet sich durch sein verbessertes Leistungs- und Impedanzmesssystem aus.

Dieses bietet eine bemerkenswerte Genauigkeit bei der Leistungsmessung und -kontrolle für feste Frequenzen von 13,56 MHz oder variable Frequenzen für Plamaimpedanzen von 50Ω und nicht 50Ω über ein Spannungsstehwellenverhältnis (VSWR) von 3:1 hinaus.

Das Paramount RF Stromversorgungssystem ist in der Lage, mit den meisten abrupten Schwankungen der Plasmaimpedanz - in Echtzeit - Schritt zu halten und ermöglicht schnellere Übergänge, kürzere Prozessschritte und reduzierte Bearbeitungszeiten für Technologien der nächsten Generation.

Seine Impedanzmessung kommt der Genauigkeit eines Netzwerkanalysators gleich, indem eine optionale Frequenzabstimmung die Einstellung praktisch sofort (d.h. in Millisekunden) vornimmt - schneller als alle übrigen Produkte auf dem Markt. Das Ergebnis ist eine bislang beispiellose Genauigkeit, Reproduzierbarkeit und Prozesssteuerung.


Vorteile Leistungsmerkmale
  • Optimiert die Uniformität des Films und den Durchsatz mit einer beispiellosen Genauigkeit bei der Leistungsabgabe
  • Ermöglicht Ätz- und Beschichtungsprozesse mit schnelleren Prozessübergängen
  • Erleichtert nahtlose Prozessübergänge 
  • Verbessert die Prozessausbeute
  • Maximiert Kapitalrendite
  • Das Messsystem der nächsten Generation ermöglicht eine hochgenaue Leistungs- und Impedanzmessung des gesamten Ausgangsbereichs - bei Impedanzen von 50Ω und nicht 50Ω
  • Nahezu sofortige Frequenzabstimmung (optional)
  • Impuls- und Pulssynchronisation mit dem weitesten verfügbaren Pulsfrequenzbereich (optional)
  • HALO - hohe Genauigkeit, geringe Ausgangsleistung - und Arc-Managementsystem (optional)
  • Kompaktes Gehäuse im Halbrackformat


Literatur Download

Paramount® Series: 400 kHz, 2 MHz, 13 MHz, 27 MHz, 40 MHz, 60 MHz
Paramount® Mid-Frequency 400 kHz Series
Paramount® Mid-Frequency 2 MHz Series
Paramount® HF 3 kW Series

Navigator® Digital Matching Network brochure   

Optimized Process Performance Using the Paramount™/Navigator® Power-Delivery/Match Solution (2007) white paper
March 26, 2008 - Advances in Radio Frequency Plasma Power Delivery Systems presentation
Optimising performance by integrating RF power and match technologies, December 2007/January 2008 magazine reprint
RF Power Fundamentals Course data sheet
The Evolution of RF Power Delivery in Plasma Processing (2001) white paper
Forward and Reflected Powers. What Do They Mean? (2001) white paper 
RF Measurements and Their Role in the Manufacturing Environment (2000) white paper
Managing Arcs in RF Powered Plasma Processes, December 2006 magazine reprint
Stabilizing RF Generator and Plasma Interactions, April 2004 magazine reprint

 

 

 

 

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