• Konkurrenzlose Plasmastromsteuerung
• Unübertroffenes DC- und HF-Arc-Handling
• Technologie mit Spitzenkompatibilität
• Führende, integrierte und felderprobte Stromlieferungslösungen
  

Unsere Netzressourcen eignen sich für:

• HF-Reinigung
• Metallätzen und dielektrisches Ätzen
• Fotolack-Ashing 
• Chemische Gasphasenaufdampfung (CVD)
• Plasmagestützte chemische Gasphasenaufdampfung (PECVD)
• Physikalische Gasphasenaufdampfung (PVD)
• Sputter-Aufdampfung

Überdies bieten wir DC-Sputtern (reaktiv und metallisch), Doppelkathoden-AC-Sputtern und PECVD sowie Einheiten für Ionenstrahlbeschichtung, reaktive Ionenstrahlätzung (RIBE) sowie High-Tech Plasma-Mess-Anwendungen.

Muster zur Auswahl der Stromversorgung