HOCHFREQUENZ
Photo of GenCal RF instrumentation
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GenCal

Das GenCal™ System bietet branchenführende Messpräzision bei den in der Plasmaprozessbranche gängigen diskreten Frequenzen sowie dieselbe hochmoderne Hybridstrom-Sensortechnologie, auf die sich der F&E-preisgekrönte Plasmaimpedanzsensor von AE stützt. Diese optimierte Technologie macht Messungen bei plasmagenerierten Signalen mit hohem Oberschwingungsanteil und Rauschen mit einer Präzision möglich, wie sie derzeit kein anderes Leistungsmessgerät bietet.

Vorteile Leistungsmerkmale
  • Schnelle Überprüfung des ordnungsgemäßen Betriebes von Generator und Abstimmer
  • Warnsignale für Leistungsschwankungen im Generator
  • Wählt Sollwert für Netzgeräteingang
  • Digitalmesser- und Parameter-LED
  • Displaywahlschalter
  • Sollwertknopf


Literatur Download

Gencal Instrumentation brochure
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
The Evolution of RF Power Delivery in Plasma Processing (2001) white paper
Forward and Reflected Powers. What Do They Mean? (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Stabilizing RF Generator and Plasma Interactions, April 2004 magazine reprint
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
An Economical Method for Process Control in Pulsed-DC Magnetron Reactive Sputtering, June 2003 magazine reprint
AE Global Services brochure

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