Advanced Energy ist weltweit führend bei Entwicklung und Support der Technologien, die für die Hochtechnologie-Fertigungsverfahren bei der Herstellung von Halbleitern wichtig sind. Die präzisen, flexiblen Stromversorgungen, die zuverlässigen Durchflussregelsysteme für Gase und Flüssigkeiten sowie die präzisen Geräte zur Temperaturmessung und -kontrolle des Unternehmens kommen alle bei den mehrstufigen Fertigungsverfahren von Halbleitergeräten, einschließlich der Beschichtung (PVD, CVD, Galvanisierung, ALD), chemischen Abtragung (Ätzen, Ablösen, CMP) und Oberflächenmodifikation (Ionenimplantation, RTP), zum Einsatz.
Stromversorgungssysteme
Massendurchflussregler
Quellentechnologie
Temperaturmessung
March 26, 2008 - Advances in Radio Frequency Plasma Power Delivery Systems presentation
27. Juni 2006 - AE Unveils New Line of Sekidenko Multi-Channel OFTs and Emissometers
16. Mai 2006 - AE Awarded Design Win by Leading Provider
Arc Handling in RF-Superimposed DC Processes (2006) white paper
Overview of the Use of Copper Interconnects in the Semiconductor Industry (2004) white paper
Performance Considerations of High-Power AC Plasma Deposition Power Supplies (2004) white paper
Power Supply Topologies (1999) white paper
Beyond Pressure Transients: Using Pressure-Insensitive MFCs to Control Gases In Semiconductor Manufacturing, March 2006 magazine reprint
Powering to better yields, November 2005 magazine reprint
Power Conversion and Control Reduces CoO and Improves Yield, March 2005 magazine reprint
Maximizing tool uptime and process stability through an RF system upgrade, November 2004 magazine reprint
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
A Novel Frequency-Domain Small-Signal Analysis of Resonant Power Converters, July 2004 magazine reprint
Partial Pressure Control in Reactive Sputtering, June 2004 magazine reprint
A Novel Pulsed Supply With Arc Handling and Leading Edge Control, April 2004 magazine reprint
High Power Pulsed Reactive Sputtering of Zirconium Oxide and Tantalum Oxide, April 2004 magazine reprint
Reactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide Coatings, April 2004 magazine reprint
Effective Closed-Loop Control for Reactive Sputtering Using Two Reactive Gases, April 2004 magazine reprint
Stabilizing RF Generator and Plasma Interactions, April 2004 magazine reprint
Optimising performance by integrating RF power and match technologies, Dec 2007/Jan 2008 magazine reprint
Used Equipment data sheet
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